应用领域：
系统参数
型号
ZW-06SA-6KW
ZW-10MKS-10KW
微波电源功率
2.45GHz 6KW
2.45GHz 10KW
反应腔
掀盖式铝制碟形腔
输入气路
标准四路气路(可选配加装至六路)
生长台类型
水冷式不锈钢生长台，铜散热底盘
衬底沉积台
*大支持2.36英寸、60mm直径圆台面 积稳定沉积
*大支持3.15英寸、80mm直径圆台面积 稳定沉积
系统真空密封性
(氦质谱检漏仪测)
真空度(氦检)<5x10`Pa.m³/sec
真空度(氦检)<5x10¹Pa.m³/sec
真空泵类型
真空油泵18m³/h(50hz)(选配)
工作压力范围
工作作压力：10-300Torr
温度计
双波红外温度计(500-1475℃),可选红外 成像温度计
控制系统
PLC控制系统，自动控制人机交互操作界面
观察窗
标配两个侧观察窗， 一个顶观察窗
输入电源
380V,三相五线
输入水压及流量
水压小于5bar,流量6L/M以上
水压小于5bar,流量9L/M以上
系统设备尺寸
系统设备尺寸160cmx90cmx100cm
重量
350KG
400KG
设备优势
◆超过1万小时的生产运行，三年批量用于生产验证，可量 产白色及彩色钻石的粗坯
◆反应可控，起辉位置固定，稳定输出功率
◆等离子体远离石英窗口
◆采用不锈钢台及铜散热底盘，可耐高温
◆铜底盘沉积物更容易清理
◆采用水冷高效散热设计，*大散热功率达12KW
◆高可靠性，高实验重复性，高耐久性
◆可高度自动化控制的软件系统
◆采用上掀盖设计，易于清洗及快速二次生长
系统特点：
◆稳定的沉积面积，钼生长台直径50-80mm
◆支持微波电源功率6KW/10KW
◆使用纯净石英窗口
◆采用不锈钢台，可耐高温
◆高压力控制，可产生高密度单模式等离子体
◆使用高精度气体质量流量计，高可靠性稳定的压力控制系统
◆稳定的微波源输入，包括 Sairem,Mugee,MKS Instrument 等电源
◆可采用电机升降及功率压力比例智能自动控制生长温度
◆具有**互锁机制，可自动触发并处理风险