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  • Sirus T2系统

Trion创建于1989年,是一家等离子刻蚀与沉积系统制造商
Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品在业内以系统占地面积小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。 从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。

Sirus T2 - 台面式反应离子刻蚀机\
Sirus T2反应离子刻蚀机(RIE)是一套台面式等离子刻蚀系统,可用于介质以及其他要求氟基化学的薄膜刻蚀。
其占地面积小及坚固耐用的设计特点使其非常适用于实验室环境。它可以用于最大为200mm的基片及200mm以下尺寸基片的刻蚀。




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