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  • Oracle III系统
Trion创建于1989年,是一家等离子刻蚀与沉积系统制造商
Trion为化合物半导体、MEMS(微机电系统)、光电器件以及其他半导体市场提供多种设备。 产品在业内以系统占地面积小、成本低而著称,且设备及工艺的可靠性和稳定性久经考验。 从整套的批量生产用设备,到简单的实验室研发用系统,尽在Trion。\

Oracle III 多腔室系统
由中央真空传输机构(CVT)、真空盒升降机和最多四个工艺反应室构成。这些工艺反应室与中央负载锁对接,既能够以生产模式运行,也能够作为单个系统独立作业。Oracle III是非常灵活的系统,既可以为实验室环境进行配置(使用单基片装卸),也可以为批量生产进行配置(使用真空盒升降机进行基片传送)。
由于Oracle III最多可容纳四个独立的工艺室,其可以有多种不同的工艺组合,其中包括RIE/ICP(反应离子刻蚀机/电感耦合等离子)刻蚀和PECVD沉积。多个室可以同时工作。鉴于所有工艺室均有真空负载锁,工艺运行安全且没有大气污染。



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